化学气相沉积cvd一体机-比较正规的买球软件

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化学气相沉积cvd一体机

发布时间:2021-04-14  浏览次数:2050

设备简介:

化学气相沉积(cvd)是指化学气体或在基质表面反应合成涂层或米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;


 

 

 

 

 

 

 

技术参数 

 

1.炉体与控制系统集成一体化,使试验方便快捷直观。

2.配置浮子流量计或质量流量计混气气路,可以单独设置气体流量。

3.精确pid程序多段控制,实现不同工艺多段温度时间监控。

4.炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果极佳。

5.配备机械泵或分子真空泵,可以实现不同的真空条件。

产品型号


nbd-t1700-80tig3z

工作温度


≤1650

加热区尺寸


310mm

恒温区尺寸
220mm

升温速率


20/min

电气规格


ac 220v  4.5kw

控制系统

1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;
2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;
3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;
4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;
5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。

气体系统(可选购)


流量计类型

浮子流量计

质量流量计

管道示意图

 

 

进气接口数量

2、3、4(多路可选)

流量范围

20-200/60-600l/min(多量程可选)

50/100/200sccm(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15mpa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

nbd-1.5c

nbd-3c

nbd-4c

抽气速率

1l/s

3l/s

4l/s

进排气口尺寸

φ8mm宝塔接头

φ8mm宝塔接头

kf16/25

极限压力

1000pa

100pa

10pa

工作温度

5-40

电气规格

ac220v

分子泵高真空系统

(可选购)

分子泵系统型号

nbd-103(a)

nbd-103(b)

nbd-103(c)

抽气速率

110l/s

600l/s

700l/s

真空测量计

复合真空计

极限压力

10^-3pa

10^-4pa

10^-5pa

工作温度

5-40

电气规格

ac 220v

ac 220v

ac 380v

* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746

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